NTC-FVZ-12-019
Litografické masky pro přípravu mikroelektrochemických senzorů
Autor:
Ing. Miloš Svoboda, Ph.D., 61910
Číslo projektu:
CZ.1.05/2.1.00/03.0088 CENTEM
Abstrakt:
Prezentujeme litografické masky pro přípravu různých typů mikroelektrochemických senzorů. Litografická maska je 4“ skleněný substrát s deponovanou tenkou vrstvou (0,1 m) nízko reflektivního chromu (reflektivita: 12 ± 2 %). Nízká reflektivita chromu umožňuje použití automatického zaostřování při expozici na bezmaskovém litografickém systému LW405B, založeného na vyhodnocení velikosti difrakčních prstenců. Do této chromové vrstvy je litograficky strukturován požadovaný vzor mikroelektrodového pole. Takto vyrobená maska je dále využívána jako předloha pro UV litografii v procesu výroby zlatých mikroelektrodových polí, které jsou klíčovou součástí mikroelektrochemických senzorů. Prezentovaná maska byla použita při výrobě mikroelektrodového pole senzoru pro detekci segmentovaného toku.