Zpět
Unveiling effects of Zr alloying on structure and properties of nanocrystalline Cu–Zr films
| Citace: |
ZHADKO, M.; BENEDIKTOVÁ, A.; ČERSTVÝ, R.; HOUŠKA, J.; ČAPEK, J.; KOLENATÝ, D.; MINÁR, J.; BAROCH, P.; ZEMAN, P. Unveiling effects of Zr alloying on structure and properties of nanocrystalline Cu–Zr films. Materials & Design, 2025, roč. 253, č. MAY 2025, s. nestránkováno. ISSN 0264-1275.
|
|---|---|
| Druh: | ČLÁNEK |
| Jazyk publikace: | eng |
| Anglický název: | Unveiling effects of Zr alloying on structure and properties of nanocrystalline Cu?Zr films |
| Rok vydání: | 2025 |
| Autoři: | Mariia Zhadko , Ing. Anna Benediktová , Ing. Radomír Čerstvý Ph.D. , prof. Ing. Jiří Houška Ph.D. , doc. Ing. Jiří Čapek Ph.D. , Ing. David Kolenatý Ph.D. , prof. Dr. Jan Minár , doc. Ing. Pavel Baroch Ph.D. , prof. Ing. Petr Zeman Ph.D. |
| Abstrakt CZ: | Nanokrystalické vrstvy Cu?Zr s obsahem Zr v rozmezí 0,3?2,7 at.% byly připraveny metodou magnetronového naprašování. Vliv legování Zr na strukturu, povrchové, mechanické a elektrické vlastnosti byl systematicky studován pomocí rentgenové difrakce, elektronové mikroskopie, mikroskopie atomárních sil, indentace a čtyřbodové metody. Výsledky ukázaly, že obsah Zr výrazně ovlivňuje strukturu a vlastnosti vrstev, přičemž nejvýraznější změny byly pozorovány při obsahu Zr 0,3 až ?1,5 at.%. Při dalším zvyšování obsahu Zr nad tuto hranici dochází pouze k nepatrným změnám v mikrostruktuře a mechanických vlastnostech, zatímco rozpustnost, elektrická rezistivita a drsnost povrchu dále narůstají. Legované vrstvy Cu?Zr vykazují tvrdost v rozmezí 3,2 až 4,2 GPa, což převyšuje hodnotu 2,5 GPa naměřenou u nelegované Cu vrstvy. Tento nárůst je přičítán kombinovanému účinku zpevnění na hranicích zrn způsobenému strukturálním zjemněním a segregací Zr, spolu se zpevněním tuhým roztokem. |
| Abstrakt EN: | Nanocrystalline Cu?Zr films with Zr content in the range of 0.3?2.7 at.% were deposited by direct current magnetron sputter deposition. Effects of Zr alloying on the structure, surface, mechanical, and electrical properties were systematically investigated using X-ray diffraction, electron microscopy, atomic force microscopy, indentation, and the four-point probe method. The experimental results revealed that the Zr content significantly affects the structural and functional characteristics of the films, with the most notable changes observed between 0.3 and ?1.5 at.% Zr. Beyond this range, further increase in the Zr content results in only minor changes in the microstructure and mechanical properties, while the solubility, electrical resistivity, and surface roughness continue to rise. The alloyed Cu?Zr films exhibit hardness values between 3.2 and 4.2 GPa, exceeding 2.5 GPa measured for the unalloyed Cu film, which is attributed to the combined effect of grain boundary strengthening due to structural refinement and Zr segregation, along with solid solution strengthening. |
| Klíčová slova |
Zpět